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更新时间:2026-09-07
浏览次数:18中高压精密闭环控制,响应迅速搭载温度补偿型压力传感单元,数字闭环算法,典型响应时间小于 1 秒,设定点控制精度可达±1% 设定值,压力收敛快,抑制超调,保障中高压工况压力稳定性与重复性MKS。
压力 + 流量二合一集成测控Baratron® 电容薄膜传感器实现高精度绝对压力测量;内置热式质量流量计实时读取质量流量,压力、流量数据同步输出,便于上位机做工艺分析、故障排查,简化气路系统搭建MKS。
高纯金属密封,耐工艺气体316L 不锈钢流道,10μinch 电解抛光处理,全金属密封,适配高纯工艺气体;润湿部件耐多种非腐蚀性工艺介质,洁净等级满足半导体工艺要求,长期漂移小MKS。
宽量程灵活选型
压力满量程:500 Torr、1000 Torr、2000 Torr、100 psia;支持 Torr/kPa/mbar/psi 多单位切换
流量量程:5~50000 sccm(N₂等效)
接口可选:4VCR 公头、1.125 英寸表面密封、1/4 英寸 Swagelok 接头等多种规格MKS
工业数字通讯,智能化运维支持 EtherCAT、DeviceNet、RS485 数字总线,可远程下发压力设定、读取压力、流量、阀位信息;内置本地嵌入式交互界面,可现场修改量程、单位,设备自诊断,方便整机集成与状态监控,提升产线稼动率MKS。
半导体设备中高压腔体下游压力闭环控制
薄膜工艺、等离子工艺、MEMS 制造压力 + 流量同步监测
光伏、显示面板工艺气体压力管控
科研真空、特种气体实验系统,工艺数据采集与故障诊断
需要同时监控腔体压力与实际气体流量的高纯气路系统
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