玉崎优势！美国 MKS 整体式 PPCMA集成压力控制器、质量流量计

更新时间：2026-09-07

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产品概述

PPCMA 集成Baratron® 电容薄膜绝对压力传感器、比例调节阀、热式质量流量计、数字控制电路于紧凑型金属密封本体。既可精准闭环控制腔体绝对压力，又可同步读取气体实际质量流量，用于工艺诊断、流量溯源、异常判断，省去外接独立 MFM，简化气路布局，降低泄漏风险，适配高纯度真空工艺场景MKS。

与 PPCA 区别：PPCA 仅压力控制；PPCMA 内置质量流量计，可同时监测流量数据，压力控制性能保持一致。

核心特点

极速响应，极小超调专属闭环算法，阶跃设定点下快速收敛，压力过冲被有效抑制，避免腔体压力震荡，保障工艺压力稳定性，可做上游 / 下游双向压力控制模式MKS。
压力 + 流量一体化测控Baratron® 电容膜片传感器实现高精度绝对压力测量；内置热式 MFM 实时采集质量流量，压力、流量双参数同步输出，便于工艺数据分析与故障诊断，无需额外加装流量计MKS。
高洁净金属密封结构洁净车间制造，全金属密封，适配高纯工艺气体，温度补偿设计，宽温域维持测量控制精度，抗漂移能力强MKS。
宽量程灵活选型压力满量程：10‑1000 Torr，有效控制量程 5%‑100% FS；流量量程：5 ~ 5000 sccm（N₂等效），支持多种接口：VCR、表面密封等多种接头规格MKS。
工业数字通讯，智能诊断支持 EtherCAT / DeviceNet 总线，可远程下发压力设定、读取压力值、流量值、阀位，内置设备自诊断，方便上位机集成、设备状态监控，提升整机稼动率MKS。

典型应用

半导体晶圆背压冷却、传输腔室压力控制
刻蚀、薄膜沉积、离子注入工艺腔体压力平衡
真空腔体压力闭环 + 流量监控，工艺异常溯源
MEMS、面板、光伏精密气体工艺，科研真空系统

产品价值

一台设备同时完成压力闭环控制 + 流量监测，减少零部件数量，降低气路泄漏点，节省机柜空间；快响应、低超调保障工艺重复性，流量数据辅助工艺分析，助力提升良率，是真空气体系统优选集成方案。