玉崎产品！美国 MKS 数字控制回路 DLT2B-EtherCAT 流量比控制器

更新时间：2026-09-07

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MKS DLT2B‑EtherCAT 流量比控制器

产品简介

DLT2B‑EtherCAT归属MKS DELTA™ II系列双通道流量比控制器，搭载EtherCAT实时工业以太网总线，专为半导体设备的单气源双路分流工艺开发。设备接收一路混合工艺气体输入，依靠内置高速数字闭环控制回路，自动把气体按设定比例分配至两路输出通道，无需两套独立供气单元。依托EtherCAT的高实时通讯能力，适配现代半导体设备运动控制架构，满足双腔、分区工艺对流量配比的高速同步管控需求。

工作原理

内置独立流量传感与数字闭环调节回路，持续采集总进气流量信号，运行配比算法动态调节两路输出阀门开度，即便前端供气压力、总流量发生波动，依旧维持两路输出的配比恒定。EtherCAT总线实现纳秒级同步，主控制器下发比例设定、量程参数，设备实时回传流量、状态、故障诊断数据，实现整套工艺设备的时序协同控制，不受气体组分改变带来的干扰。

核心特点

EtherCAT高速实时总线，支持CoE协议，时钟同步精度高，数据刷新速度快，线形、树形多种拓扑，布线简洁，适配新一代半导体设备控制系统，可直接对接主流工控主站。
双通道独立流量分配，配比区间1:1‑20:1双向可调，配比重复度优异，保障双腔或者腔体内双区域工艺一致性，减少批次差异。
抗输入流量扰动能力强，总进气波动条件下依旧稳定维持输出比例，配比建立时间短，缩短工艺等待周期，提升机台产出效率。
集成网页式嵌入式诊断功能，普通浏览器即可读取运行参数、故障代码，无需专用软件，不用拆机就可以完成设备状态校验，降低停机维护时长。
流体通路采用高纯316 VAR不锈钢，内部表面光洁度高，适配各类腐蚀性、高纯工艺气体，可匹配多档氮气当量量程，覆盖500‑10000sccm规格选型。
全部配比参数总线远程设置，摒弃人工手动节流阀调试，规避人为调试带来的工艺偏移，便于工艺配方存储与调用。

关键技术参数

通道数量：2通道
通讯接口：EtherCAT（CoE）
比例控制范围：1:1～20:1双向
配比重复度：±0.3%设定点
配比建立时间：＜3s
有效控制区间：满量程5‑100%
最大入口压力：150psig
润湿材质：316 VAR不锈钢、Inconel、PTFE等
标定介质：氮气当量，支持多种工艺气体

应用场景

主要用于半导体刻蚀、光阻剥离、CVD薄膜沉积工艺，300mm晶圆设备腔室分区气体分配；双腔体设备单气源分流匹配；平板显示、光伏镀膜设备，通过调控不同区域气体流量，改善薄膜均匀度，保障工艺可重复性，适配EtherCAT架构的新一代真空工艺整机集成。

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