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更新时间：2026-06-15 
浏览次数：8半导体晶体管通过控制电流来传输信号，但晶体管之间嵌入绝缘膜以防止电流泄漏或来自其他晶体管的电流通过非预期路径。这些绝缘膜由二氧化硅 (SiO₂) 或氮化硅 (SiN) 等材料制成。SiO₂ 用作绝缘膜，而 SiN 则用作介电常数高于 SiO₂ 的绝缘膜，或者在采用化学机械抛光 (CMP) 去除多余的SiO₂时用作阻挡层，之后 SiN 也会被去除。因此，为了获得最佳性能和精确的工艺控制，必须测量这些薄膜的厚度。
OP™（Optimum Microscope）是一款利用显微光谱技术测量微小区域绝对反射率，从而实现对薄膜厚度和光学常数进行高精度分析的设备。
它能够以非破坏性和非接触式的方式测量各种薄膜、晶圆和光学材料上的涂层和多层膜的厚度。该设备可实现高速测量，每点测量仅需1秒。此外，它还配备了相应的软件，即使是初次使用者也能轻松分析光学常数。
以上规格包含自动XY平台功能。
*1 薄膜厚度范围是基于SiO2计算的。
*2 有关 300 毫米平台，请另行咨询。
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