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更新时间:2026-09-28
浏览次数:10发布时间
2026 年 9月 28 日
我们谨通知您,我们已开始销售以下产品。
新产品
差异化版本文案,侧重和可见光机型的对比、有色样品与半导体检测优势
LSM-9100WNIR是鲁机欧LSM-9100系列专属近红外版本全场相位差/畸变测量设备,跳出可见光偏振检测局限,采用近红外三波长线性偏振检测方案。针对可见光不透光的着色树脂、硅基半导体晶片开发,解决普通可见光应力仪无法穿透有色试样、无法采集内部应力的痛点,一次性完成全场二维畸变测绘,无需逐点扫描。
检测方式:NIR三波长线性偏振法
工作波段:900~1200nm近红外LED光源
相位差测量区间:30~3000nm(评估参考最高可达5000nm)
有效测量视场:φ100mm
样品放置高度:最大160mm,可容纳厚型成型件
成像像素:1100×1100
重复精度:单波长σ<1nm,三波长σ<3nm
整机尺寸:W300×D353×H540mm
主机重量:22kg
供电:AC100-240V宽电压输入
配套软件:StrainEye,输出相位差、主轴方位、应力值,支持2D云图、截面曲线、3D可视化、CSV导出
近红外穿透特性,可见光下深色、着色树脂会吸光无法测量,该机型利用近红外穿透能力,直接检测有色注塑件内部残余应力与成型畸变。
内置LUCEO原厂POLAX系列近红外偏振光学组件,整套偏振光路一体化校准,光学系统稳定性高,长期测量漂移小。
一键全自动采集,仅放置样品点击测量即可,全程无需人工调节偏振角度,消除人为判读带来的主观偏差,适合产线质检批量检测。
全场成像,单次拍摄直接获取整个圆形视场的应力分布云图,可任意截取局部区域做统计分析,自动生成直方图、截面曲线。
适配硅片、半导体透明晶体材料,硅在近红外波段具备透光特性,可检测晶圆加工产生的应力畸变,是半导体来料检验的优选设备。
长寿命高亮度近红外LED光源,功耗低至35W,维护简单,减少光源更换成本。
依托光弹性双折射效应,当材料内部存在残余应力时,材料会产生双折射现象。近红外光源发出的光,依次经过起偏器入射样品;光线穿过样品后分解成两束传播速度不同的偏振光,产生相位延迟。设备内置三组近红外波长采集多组偏振图像,相机采集不同偏振态下的光强信息,软件解析每一个像素点的相位差数值,换算得到应力大小与应力主轴方向,生成二维彩色畸变分布云图。
和可见光机型最大差异:采用NIR波段,不受样品颜色吸收干扰,对深色树脂、硅晶片这类可见光不透明样品有效。
样品表面擦拭干净,油污、划痕会造成局部杂散光,干扰近红外偏振信号。
样品平稳放置,保证近红外光束垂直入射样品表面,倾斜会引入额外相位误差。
开机预热后执行基准零点校准,保证长时间连续测量精度稳定。
设备放置位置避开震动源,震动会造成内部偏振元件偏移,影响成像质量。
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