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第一热研TB-IIF系列/TB-IIV(N [应用实例:电子/半导体领域]氧化锆氧浓度计

更新时间:2024-08-23      浏览次数:122

9月份热卖!第一热研TB-IIF系列/TB-IIV(N [应用实例:电子/半导体领域]氧化锆氧浓度计


活跃于电子、工业、医药等广泛领域。我们编制了一系列已被采用的案例研究。 


在电子和半导体行业,产品商业化之前有各种流程,我们的氧气计用于控制这些流程中的气氛并防止氧化。微量氧(ppm)测量是主流。
例如,广泛应用于半导体制造设备、回流焊炉、真空热处理炉等。
我们会根据样气条件来选择设备,请联系我们。

对象型号:TB-IIF系列、TB-IIV(N)系列、EZY系列

*其他行业也广泛使用。请下载收养案例集和按申请列表,然后联系我们。

基本信息[应用实例:电子/半导体领域]氧化锆氧浓度计

[氧化锆氧气计可以解决的问题]
○我想通过测量氧气浓度来控制气氛来提高质量
○我想测量真空中的氧气浓度
○我想通过控制燃烧来降低燃料成本
○PSA,气体生产设备○ 氧化锆传感器具有多层保护,具有抗灰尘和腐蚀性气体侵蚀的结构检测部分采用稳定氧化锆陶瓷的 O2 传感器

[特点]测量 根据条件可提供合适的附件○ 兼容从 ppmO2 水平到 100% O2 的广泛范围○ 真空兼容产品可以在 1 x 10-3 Pa (1 x 10-5 Torr) 的减压下测量 O2 分压○可以测量和管理氧化/热处理炉等还原气氛(-O2%、CO+H2、mV范围)○结构简单,易于维护*详情请联系我们或查看产品目录。



价格信息我们会根据测量条件选择设备,请联系我们。
最后期限〜1个月
应用/结果示例半导体制造设备:扩散炉、CVD等。
焊接相关设备:N2回流炉、浸渍炉等。



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